报告题目：亚10纳米新型图案化技术赋能高通量微纳传感器件制造与集成

报告人：罗四海教授，西安交通大学

报告时间：2025年12月26日（星期五），10:30-12:00

报告地点：致知楼3328

报告摘要：

随着摩尔定律逼近物理极限，现有光刻技术受限于传统光学衍射极限，难以制造亚10纳米结构与器件。本报告将主要介绍课题组开发的新型高分辨纳米制造技术一粘附光刻技术及其在微纳传感领域的应用。该技术通过分子自组装技术精准调控金属薄膜材料表面的粘附力，来实现金属薄膜材料的低应变、无损选择性剥离，从而实现低成本、高通量、晶圆级纳米尺度图案加工和转移，该方法不受传统光刻的衍射极限的限制，最小加工精度可达亚3纳米，同时还解决了传统光刻异质结构或器件难以加工的难题!

报告人简介：

罗四海，西安交通大学前沿科学技术研究院/机械学院/第一附属医院双聘教授/博导，入选国家级青年人才项目、西安交通大学青年拔尖人才A类项目。分别在意大利米兰理工大学和挪威科技大学获得硕士和博士学位，博士毕业后，先后在挪威科技学和瑞士保罗谢尔研究所（PSI）从事博士后/研究员，期间受到荷兰ASML资助从事有关极紫外干涉光刻技术研究。目前主要从事先进纳米制造与智能传感应用研究。主持国家自然科学基金委基金2项，在Advanced Materials、ACS Nano、Advanced Functional Materials等学术期刊上发表SCI论文二十余篇，目前担任中科院1区期刊International Journal of Extreme Manufacturing（IF=16.7）和Microsystems & Nanoengineering （IF=7.3）青年编委。